Vacuum arc evaporation inherently emits droplets or particles. Using pulsed discharge currents (such as implemented with the Laser-ArcTM technology) reduces this effect but cannot completely suppress it. This results in particle induced growth defects and large coating roughness, which are not acceptable for some applications. Thus IWS engineers developed technologies to filter the carbon plasmas and separate out most droplets and particles. Plasma filtering enables the deposition of ta-C coating with significantly reduced defect densities. These coatings can be used without additional lapping steps even for demanding applications.
A plasma filter was developed especially for the Laser-ArcTM technology and the coating module LAM 500. The filter replaces the adapter flange, which usually connects the source chamber to the coating machine. In filtered operation the technology deposits smooth ta-C coatings of low defect densities, which significantly outperform unfiltered coatings. The deposition rate is reduced by about 40% compared to unfiltered deposition.
VTD為德國真空鍍膜技術的佼佼者，其前身為東德的研究機構，技術開發人員就有二千多位，近來更是提供歐盟在太空貓頭鷹計畫中領先的真空光學鍍膜技術，而畫下鍍膜技術新世紀的里程碑，相信其在真空鍍膜的領域上，能為您帶來更有效益的生產方式及品質。
Schematic view of the LAM 500 plasma source for generating carbon plasmas with particle filter © Fraunhofer IWS Dresden 
Coating machine DREVA 600 with integrated LAM 500 plasma source and filter module
© Fraunhofer IWS Dresden
ref: http://www.iws.fraunhofer.de/en/business_fields/pvd_nanotechnology/carbon_coatings/technologies/filter-laser-arc.html
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利豐行著重於表面處理之前後製程技術，提供客戶individual & total finishing solutions 的整合作業，協助產業提升效能並降低成本。
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